师的分析,基本可以确定,星海半导体的‘光刻厂’使用到EUV光源,7nm工艺领先我们两年!” 台电这边已经开始接明年的芯片订单。 台电明年也是7nm工艺。 只不过,台电还没拿到阿斯麦EUV光刻机,手里DUV光刻机的极限,基本就是7nm了。 虽然通过多重曝光等技术,使用DUV光刻机,也能做到更小的支撑工艺。 可多重曝光工艺,每多一次曝光,良品率就会降低,成本会大大提升。 所以台电并没有在多重曝光技术方面多做研究,明年会拿到阿斯麦EUV光刻机,后年就能直接使用EUV光源,可以做7nm、5nm甚至4nm、3nm工艺!! 按照台电原本的计划,明年是DUV的7nm工艺……拿到EUv光刻机之后,后年同样是7n...